米兰网页版-米兰（中国）-米兰（中国）

您当前的位置：首页 > 标签搜索

当前标签：东北磁控溅射厂家

东北磁控溅射厂家为你详细介绍东北磁控溅射厂家的产品分类,包括东北磁控溅射厂家下的所有产品的用途、型号、范围、图片、新闻及价格。同时我们还为您精选了东北磁控溅射厂家分类的行业资讯、价格行情、展会信息、图片资料等，在全国地区获得用户好评，欲了解更多详细信息,请点击访问!

磁控溅射系统设备怎么提高使用效率

2022-08-18

在使用磁控溅射系统设备的时候，使用通常的溅射方法，发现溅射效率都不是非常的高。为了提高溅射的效率，加快工作的进度。那么该如何加快这种设备的使用效率呢？这就需要增加气体的理化效率。增加气体的离化效率能够有效的提高溅射的效率。浅析磁控溅射系统设

了解详情 +
磁控溅射是高速低温溅射技术

2022-08-01

磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。磁控溅射(magnetron-sputtering)是70年代迅速发展起来的一种“高速低温溅射技术”。磁控溅射是在阴极靶的

了解详情 +
磁控溅射的工艺流程

2022-07-28

在磁控溅射过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下：（1）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（2）抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；（3）加热

了解详情 +
磁控溅射设备的镀膜均匀

2022-05-05

磁控溅射设备的镀膜均匀磁控溅射设备技术发展过程中各项技术的突破一般集中在等离子体的产生以及对等离子体进行的控制等方面。通过对电磁场、温度场和空间不同种类粒子分布参数的控制，使膜层质量和属性满足各行业的要求。膜厚均匀性与磁控溅射靶的工作状态息

了解详情 +
磁控溅射设备化学稳定性好

2022-05-05

磁控溅射设备化学稳定性好磁控溅射设备当入射离子的能量低于某一临界值(阀值)时，不会发作溅射;溅射原子的能量比蒸发原子的能量大许多倍;入射离子的能量很低时，溅射原子角散布就不完整契合余弦散布规律。角散布还与入射离子方向有关。从单晶靶溅射出来的

了解详情 +
磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用

2022-04-13

磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层

了解详情 +

首页

12 3 4 5 6 7 8 9

1/9

下一页尾页

网站首页关于我们产品中心新闻资讯招贤纳士资质荣誉米兰（中国）

当前标签：东北磁控溅射厂家

磁控溅射系统设备怎么提高使用效率

磁控溅射是高速低温溅射技术

磁控溅射的工艺流程

磁控溅射设备的镀膜均匀

磁控溅射设备化学稳定性好

磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用