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分类：磁控溅射

关于磁控溅射镀膜系统的操作规范

2020-07-21

磁控溅射镀膜系统的操作规范：1.正常工作的磁控溅射镀膜系统在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜系统运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜系统的电

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浅析磁控溅射镀膜工艺的概念及分类

2020-07-21

溅镀，通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜系统要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(

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浅析蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别

2020-07-21

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子束溅射系统。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，

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新材料的开发带动磁控溅射镀膜技术的发展

2020-07-21

近年来，随着新材料的开发，尤其是薄膜材料的发展和应用，带动控溅射沉积技术的飞速发展，在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了控溅射沉积镀膜技术的工艺过程及其发展情况，各种主要磁控溅射镀膜仪的特点，并介绍磁控溅射技术在

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简析磁控溅射的工艺流程

2020-07-21

在磁控溅射过程中，具体工艺过程对薄膜性能影响很大，主要工艺流程如下：（1）基片清洗，主要是用异丙醇蒸汽清洗，随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；（2）抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；（3）加热

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介绍磁控溅射镀膜技术的应用

2020-07-21

磁控溅射镀膜技术主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品来沉积金属或化合物薄膜从而获得光亮、美观、经济的塑料、陶瓷表面金属化制品。装饰、灯具、家具、玩具、工艺美术、装璜等生活领域的制膜技术通常用磁控溅射方法，该方法还应用于军事保护膜、光学产品、

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