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磁控溅射的数值仿真设计

2022-11-21

磁控溅射的数值仿真设计将工程和工艺设计运用计算机模拟，再现溅射沉积过程，并将设计的结果进行显示和分析以优化工程和工艺设计。工程设计可以实现参数化设计：利用已有的商业软件：Pro／E，UG，Ansys等进行二次开发。工艺设计是在自行设计或利用

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磁控溅射的镀膜过程

2022-11-21

磁控溅射的镀膜过程有哪些？气体放电：辉光放电产生等离子体，使工作气体离化，产生阳离子，在电场作用下轰击阴，并伴有二次电子发射等现象出现。对辉光放电等离子体的研究是研究溅射沉积过程的必由之路。溅射碰撞：溅射碰撞一般是研究带电荷能离子与靶材表层

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磁控溅射的镀膜原理

2022-10-28

磁控溅射的镀膜原理磁控溅射镀膜技术分很多种，有直流磁控溅射，中频磁控溅射，射频磁控溅射，镀的基材和膜层不一样，才用的原理不一样，选择的技术有区别。采用中频溅射的优点是可得到光滑致密、膜层硬度高、膜厚可线性长、温升缓和的产品。但要求较高，工作

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磁控溅射的种类有哪些

2022-10-28

磁控溅射包含许多种类。各有不同工作原理和使用对象。但有总共同点：使用磁场与电场交互作用，使电子在靶外表邻近成螺旋状运转，然后电子碰击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。磁控溅射靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶

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磁控溅射的维护方法

2022-09-16

对于磁控溅射来说，做好相关的维护工作是非常重要的，那么磁控溅射如何做好维护工作呢?1，根据自动磁控溅射运行状态的需要，对自动磁控溅射进行动态管理，确保能够满足磁控溅射的需要。特别要注意自动磁控溅射和进口设备的一些特殊配件，因为它们的交货周期

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磁控溅射的常见故障及解决办法

2022-09-16

磁控溅射是物理气相堆积的一种,磁控溅射通过在靶阴极外表引入磁场，使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢？磁控溅射常见毛病及解决办法1.无法起辉（1）直流电源毛病，查看直流电源；

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